欢迎光临上海纳腾仪器有限公司网站!
诚信促进发展,实力铸就品牌
服务热线:

13501903943

相关文章

Related articles

产品展示 / products 您的位置:网站首页 > 产品展示 > 纳米压印 > Imprint Nano纳米压印 > 纳米压印胶

纳米压印胶

简要描述:公司拥有齐全的纳米系列压印胶材料,热压型纳米压印胶、热塑型、紫外光固化型、紫外光固化纳米压印和光刻两用胶、举离型传递层材料、刻蚀型传递层材料、各种与纳米压印技术相关的化学药品,如模板防粘剂、基片增粘剂等。

  • 产品型号:
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2018-05-14
  • 访  问  量:771
详情介绍

技术参数:

IPNR-T1000 Thermal plastic nanoimprint resist 热塑型纳米压印胶
IPNR-T2000 Thermal curable nanoimprint resist 热固化型纳米压印胶
IPNR-PC1000 Photo-curable nanoimprint resist (Free radical initiation) 光固化型(自由基引发)
IPNR-PC2000

Photo-curable nanoimprint resist (cation intiation) 光固化型(阳离子引发)

IPNR-UL1000 Under-layer polymer for lift off process 举离型传递层材料
IPNR-UL2000 Under-layer polymer etching mask process 刻蚀型传递层材料
IPNR-UPM Quick mold fabrication material 快速模板制作材料
IPNR-AP Chlorosilane based adhesion promoter 氯硅烷增粘剂


主要特点:
 

IPNR-T1000 Thermoplastic nanoimprint resist
热塑型

? Sub-10 nm resolution 分辨率低于10nm
? Low imprint pressure (< 20 bar) 低压力压印(< 20 bar)
? Low imprint temperature (< 100 ℃) 低温压力(< 100 ℃)

IPNR-T2000 Thermal curable nanoimprint resist
热固化型

? Sub-10 nm resolution 分辨率低于10nm
? Low imprint pressure (< 1 bar) and Low curing temperature (< 100 ℃) 低压力压印(< 1 bar)以及低固化温度(< 100 ℃)
? Short thermal curing time (< 60 s) 热固化时间短(< 60 s)
? High O2 Plasma etching resistance 高氧等离子体刻蚀电阻
? Uniform film thickness 均一的膜厚度

IPNR-PC1000 Photo-curable nanoimprint resist (Free radical initiation)
光固化型纳米压印(自由基引发)

? Acrylate functionalized polysiloxane based resist 丙烯酸酯官能化聚硅氧烷抗蚀剂
? Vacuum or Nitrogen atmosphere operation 真空或者氮气气氛下操作
? Sub-10 nm resolution 低于10nm的分辨率
? Low imprint pressure (< 1 bar) and ultra-fast curing time (< 10 s) 低压力压印以及超快固化时间(< 10 s)
? Low UV-exposure dose 低紫外照射量
? High O2 Plasma etching resistance 高氧等离子体刻蚀电阻
? Uniform film thickness 均一的膜厚度

IPNR-PC2000 Photo-curable nanoimprint resist (cation intiation)
光固化纳米压印蚀剂(阳离子引发)

? Vinyl ether functionalized polysiloxane based resist 乙烯基醚官能化聚硅氧烷抗蚀剂
? Air atmosphere operation 空气气氛下操作
? Sub-10 nm resolution 分辨率低于10nm
? Low imprint pressure (< 1 bar) and ultra-fast curing time (< 1 bar) 低压力压印(< 1 bar)以及超快固化时间(< 1 bar)
? Low UV-exposure dose 低紫外照射量
? High O2 Plasma etching resistance 高氧等离子体刻蚀电阻
? Uniform film thickness 均一的膜厚度

IPNR-UL1000 Under-layer polymer
举离型传递层材料

? Thermoplastic polymer for lift off process 热塑聚合物发送过程
? Strong adhesion to up layer resists and substrates 强粘附抗蚀剂层以及材料

IPNR-UL2000 Under-layer polymer
刻蚀型传递层材料

? Thermoset polymer for etching mask process 热固性聚合物刻蚀面罩过程
? Strong adhesion to up layer resists and substrates 强粘附抗蚀剂层以及材料

IPNR-UPM Quick mold fabrication material
快速模板制作材料

? Quick and easy mold fabrication 快速而简单的塑造材料
? High resolution and low cost 高分辨率以及低成本
? Superb chemical and temperature resistance *的化学性以耐温性
? Excellent adhesion to mold substrate 塑造优良的附着力基板
? Reliable mold release property 可靠的脱模性

IPNR-AP Chlorosilane based adhesion promoter
氯硅烷增粘剂

? Promoting adhesion between resists and substrates 促进和基材之间的附着力
? Vapor phase or solution processing 气相或者液相处理

 

:admin@shnti.com



留言询价

留言框

  • 产品:

  • 您的单位:

  • 您的姓名:

  • 联系电话:

  • 常用邮箱:

  • 省份:

  • 详细地址:

  • 补充说明:

  • 验证码:

    请输入计算结果(填写阿拉伯数字),如:三加四=7

联系我们

contact us

咨询电话

021-64283335

扫一扫,关注我们

返回顶部