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高分辨率纳米压印模板(Mold for nanoimprint lithography)

产品简介

高分辨率纳米压印模板(Mold for nanoimprint lithography)采用*制造工艺,可把平面纳米压印拓展到任意曲面。标准模板分为三类:Quartz Molds, Silicon Molds, Polymer Molds of 2“、3“、4“。适用于Obducat,Suss,HP,EVG等多种型号的纳米压印设备。

产品型号:石英/硅/聚合物模板
更新时间:2024-06-17
厂商性质:代理商
访问量:3121
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高分辨率纳米压印模板(Mold for nanoimprint lithography)技术参数:  

Deliveryofnanoimprinttemplatesinvariousmaterials(Si,SiNx,SiC,quartz,glass).Maximumareaofthetemplates:4inchwithfeaturesizeof100nm.Forsmallerarea,minimumfeaturesizeof50nm.  

提供各种材料的纳米压印模板(硅,氮化硅,碳化硅,石英玻璃)。模板zui大尺寸:4英寸,特征尺寸为100nm。对于更小的尺寸,zui小的特征尺寸可以达到50nm。  

DeliveryofEBLserviceforvariousstructureswiththefeaturesizedownto30nm.Substrates:anyconductingornon-conductingwafers.  

提供zui低30nm特征尺寸的各种结构的电子束刻蚀服务。基板:任何导电或者非导电晶片。  

MicroandnanofabricationsforallkindsofnanostructuresinaSi,III-V,II-VIandpolymers.  

各种纳米结构(硅,III-V族元素,II-VI族元素以及聚合物)的微纳米加工。  

高分辨率纳米压印模板(Mold for nanoimprint lithography)主要特点:  

softmoldforthermalnanoimprint热压印的软模板  

quartzmoldforUVnanoimprint紫外压印的石英模板  

siliconmoldforthermalnanoimprint热压印的硅模板

 

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