为了满足现代材料研究的挑战，Swift开发了一系列*可定制的原位拉伸试样台。这些拉伸试样台适合多种显微观测系统，比如扫描电镜、透射电镜、光学显微镜、共聚焦显微镜等。支持EBSD，样品加热和冷却,可实现...

Alpha-Step D-300/500 探针式轮廓仪支持台阶高度、粗糙度、翘曲度和应力的2D 测量。Alpha-Step台阶仪光学杠杆传感器技术提供高分辨率测量，大垂直范围和低触力测量功能。 ...

非接触式优点就是测量装置探测部分不与被测表面的直接接触，保护了测量装置，同时避免了与测量装置直接接触引入的测量误差。Zeta-20三维光学轮廓仪集成了六种光学计量技术。 ZDot 测量模式同时采集高分...

Profilm 3D是一款兼具垂直扫描干涉 (VSI)和高精确度相移干涉 (PSI) 技术的经济三维光学轮廓仪，其可以用于多种用途的高精度表面测量。我司有此机器可测样。

iNano高精度台式纳米压痕仪是一种紧凑，用户友好的纳米机械测量系统，设计用于硬涂层，薄膜和少量材料。该系统旨在进行准确，可重复的纳米级机械测试，包括压痕，硬度，划痕和通用纳米级测试。iNano具有很...

Lumina AT1光学表面缺陷分析仪可对玻璃、半导体及光电子材料进行表面检测。Lumina AT1既能够检测SiC、GaN、蓝宝石和玻璃等透明材料，又能对Si、砷化镓、磷化铟等不透明基板进行检测，其...

Filmetrics R50 是KLA电阻测试家族的最新产品。R50方阻测试仪是KLA超45年电阻测量技术地位之作。电阻测量和监控对于任何使用导电薄膜的行业都至关重要，从半导体制造到可穿戴技术所需的柔...

高精度原子力显微镜 ParkNX10为您带来纳米级分辨率的数据，值得您信赖、使用和拥有。 在SmartScanAuto有的智能模式下，系统自动执行所有必要的成像操作，同时智能选择好的图像质量和扫描...

Nano Indenter® G200原位纳米力学测试系统是一种准确，灵活，使用方便的纳米级机械测试仪器。 G200 测量杨氏模量和硬度，包括从纳米到毫米的六个数量级的形变测量。 可测量聚合...

SPRm200 表面等离子共振显微镜 工作原理基于表面等离子共振（SPR）技术。是世界上1st台将表面等离子体共振技术和光学显微镜巧妙结合为一体的生物传感检测仪。

与X射线用氮化硅窗口类似，透射电镜(TEM)用氮化硅薄膜窗口也使用低应力氮化硅薄膜基底。但整体尺度更小，适合TEM装样的要求。窗口有单窗口和多窗口阵列等不同规格。同时SHNTI也定制多孔氮化硅薄膜窗口...

公司拥有齐全的纳米系列压印胶材料，热压型纳米压印胶、热塑型、紫外光固化型、紫外光固化纳米压印和光刻两用胶、举离型传递层材料、刻蚀型传递层材料、各种与纳米压印技术相关的化学药品，如模板防粘剂、基片增粘剂...

阵列式压力传感系统通过由前端柔性阵列式微机电压力感测器及后端软件界面组成，前端传感器依所承受压力呈现线性反应变化，压力越大则电导越高，再由后端软件将接触面压力分布实时呈现并记录，协助设备进行有效调整校...

碳化硅SiC长晶设备是实现高质量SiC晶体生长、高纯度原料合成、高温晶体热处理的专业设备。广泛应用于SiC晶体生长、原料合成、晶体热处理领域。可以生长6/8英寸的晶锭。

MPCVD金刚石长晶设备Intelligent MPCVD Dimond Growth System (IMD)系列金刚石晶体生长系统，是实现高质量金刚石晶体生长、高纯度晶体薄膜沉积、高温晶体热处理的...

Desk V 镀膜机使用一个2英寸的阴极进行溅射，由一个最大输出为100毫安的直流电源驱动。使用倾斜/旋转台来实现好的样品覆盖，特别是在粗糙的表面。Desk V还可以在沉积前用蚀刻台和快门对样品进行预...

全自动步进重复式激光干涉光刻机VIL 1000纳米光刻系统具有全自动光路重构、动态锁相、高精度步进重复曝光等强大功 能。在放置旋涂好光刻胶的 晶圆后，无需任何手动设置或调整，我们的自动化系统可以在2 ...

激光干涉光刻机----HIL系列激光干涉纳米光刻机具有突破性的强大功能，只需要单次曝光即可在几分钟内制备大面积周期性纳米结构。其最小特征尺寸可以低于50纳米。该系统是制作高品质、晶圆级的纳米压印模板和...

低温强磁场共聚焦样品杆物性表征-低温光学​低温强磁场环境下的共聚焦拉曼、荧光、MOKE、扫描成像测试

低振动光学型恒温器。超低振动， 低温拉曼、 荧光、 红外、 太赫兹、 MOKE及低温物性测试

无液氨低振动低温磁场测试系统.万物”皆可转－多种物性测量转角测试。多种测试选件如电学、磁学、热学、光学。温度范围4.2 K -325 K,最大磁场1T／3T／5T可选·顶部插杆式（Toplo...

VIL1000激光干涉光刻机 VIL系列纳米图形系统（激光干涉光刻机）具有快速可重构光束传输、主动图形稳定和精确样品定位等强大功能。该系统可以通过使用标准2cm×2cm正方形或用户定义形状的...