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TEM氮化硅薄膜窗口

简要描述:与X射线用氮化硅窗口类似,透射电镜(TEM)用氮化硅薄膜窗口也使用低应力氮化硅薄膜基底。但整体尺度更小,适合TEM装样的要求。窗口有单窗口和多窗口阵列等不同规格。同时SHNTI也定制多孔氮化硅薄膜窗口。

  • 产品型号:
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2018-05-14
  • 访  问  量:4286
详情介绍

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透射电镜(TEM)用氮化硅薄膜窗口
产品概述:
与X射线用氮化硅窗口类似,透射电镜(TEM)用氮化硅薄膜窗口也使用低应力氮化硅薄膜基底。但整体尺度更小,适合TEM装样的要求。窗口有单窗口和多窗口阵列等不同规格。同时SHNTI也定制多孔氮化硅薄膜窗口。

 

现在SHNTI可以提供透射电镜(TEM)用氮化硅薄膜窗系列产品,规格如下:
外框尺寸:

  • 3 mm x 3 mm (窗口尺寸:0.5 mm,薄膜厚度:50 nm)
  • 3 mm x 3 mm (窗口尺寸:1.0 mm,薄膜厚度:50 nm)
  • 3 mm x 3 mm (窗口尺寸:1.0 mm,薄膜厚度:100 nm)
  • 窗口类别:双缝、九窗格(3×3阵列)

边框厚度: 200μm、381μm。 
Si3N4薄膜厚度: 50nm、100nm
SHNTI也可以为用户定制产品(30-200nm),但要100片起订。
本产品为一次性产品,SHNTI不建议用户重复使用,本产品不能进行超声清洗,适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。

技术指标:
表面平整度:
我们认为薄膜与其下的硅片同样平整, TEM用氮化硅薄膜窗口的表面粗糙度为:0.6-2nm。*适用于TEM表征。

亲水性
该窗格呈疏水性,如果样品取自水悬浮液,悬浮微粒则不能均匀地分布在薄膜上。用等离子蚀刻机对薄膜进行亲水处理,可暂时获得亲水效果。虽然没有对其使用寿命进行过测试,但预期可以获得与同样处理的镀碳TEM网格相当的寿命。我们可以生产此种蚀刻窗格,但无法保证其使用寿命。如果实验室有蚀刻工具也可对其进行相应的处理提高其亲水性能。



温度特性:
氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品,能够承受1000度高温,非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。

化学特性:
氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。

应用简介和优点:
1
适合TEMSEMAFMXPSEDX等的对同一区域的交叉配对表征。
2
大窗口尺寸,适合TEM大角度转动观察。
3
无碳、无杂质的清洁TEM观测平台。
4
背景氮化硅无定形、无特征。
5
耐高温、惰性衬底,适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境,(薄膜直接沉积在窗口上)。
6
生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后,窗口具有很好的亲水性。。
7
耐高温、惰性衬底,也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。
8
适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。

氮化硅薄膜应用范围非常广,甚至有时使不可能变为可能,但所有应用都有无氮要求(因样本中有氮存在):
惰性基片可用于高温环境下,通过TEMSEMAFM(某些情况下)对反应进行动态观察。
作为耐用基片,首先在TEM下,然后在SEM下对同一区域进行匹配
作为耐用匹配基片,对AFMTEM图像进行比较。
聚焦离子束(FIB)样本的装载,我们*使用多孔薄膜,而非不间断薄膜。


许多研究纳米微粒,特别是含氮纳米微粒的人员发现此种薄膜窗格在他们实验中*。气凝胶和干凝胶的基本组成微粒尺寸极小,此项研究人员也同样会发现氧化硅薄膜窗格的价值。
优点:
• SEM
应用中,薄膜背景不呈现任何结构和特点。
• x-
射线显微镜中,装载多个分析样的*方法。
无氮
高温应用,氮化硅薄膜在
1000°C高温下仍能保持稳定的性能。

使用前清洁:
氮化硅薄膜窗格在使用前不需进行额外清洁。有时薄膜表面边角处会散落个别氧化物或氮化物碎片。由于单片网格需要从整个硅片中分离,并对外框进行打磨,因此这些微小碎片不可避免。尽管如此,我们相信这些碎片微粒不会对您的实验产生任何影响。

如果用户确实需要对这些碎片进行清理,我们建议用H2SO4 : H2O2 (1:1)溶液清洁有机物,用H2O:HCl: H2O2 (5:3:3)溶液清洁金属。

通常不能用超声波清洗器清洁薄膜,因超声波可能使其粉碎性破裂。

 

 

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