VIL1000激光干涉光刻机

简要描述：VIL1000激光干涉光刻机
VIL系列纳米图形系统（激光干涉光刻机）具有快速可重构光束传输、主动图形稳定和精确样品定位等强大功能。该系统可以通过使用标准2cm×2cm正方形或用户定义形状的图案场进行重复曝光，在8英寸大面积上产生各种纳米结构，例如1D光栅线和2D柱/孔图案，周期从240 nm到1500 nm。

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厂商性质：代理商
更新时间：2022-12-15
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VIL1000激光干涉光刻机

1、可实现同一晶圆上不同纳米结构的分区光刻；

2、制作各种一维、二维纳米图案；

3、最小线宽低于50nm；

4、与其他同类设备的功能对比图如下：

	电子束直写	激光直写	紫外光刻机	激光干涉光刻机
设备示例
代表厂商	德国的Raith和Vistec, 日本的JEOL和Elionix	海德堡和Raith	Eulitha	InterLitho
代表性产品型号	Raith EBPG Plus	海德堡 DWL 66+	Eulitha PhableR 100	VIL1000
主要用途	高分辨率掩模版制造和纳米结构的制备	对分辨率要求不高的掩模版制造和纳米结构制备	分辨率适中的纳米结构制备	大面积、低成本、高通量制备高分辨率周期性纳米结构，用于微纳光学、生物芯片等新兴应用
刻写的最小物理线宽	<10nm	~300nm	60nm	40nm
价格和维护成本	高	中	中	较低
自动化程度	全自动	全自动	部分手动	全自动
设备效率	低	低	高	高
需要掩模	否	否	是	否
特征尺寸调制难度	难，样品需要重新刻写	难，样品需要重新刻写	难，需要重新刻写模板	容易，几分钟可实现