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VIL1000激光干涉光刻机

简要描述:VIL1000激光干涉光刻机
VIL系列纳米图形系统(激光干涉光刻机)具有快速可重构光束传输、主动图形稳定和精确样品定位等强大功能。该系统可以通过使用标准2cm×2cm正方形或用户定义形状的图案场进行重复曝光,在8英寸大面积上产生各种纳米结构,例如1D光栅线和2D柱/孔图案,周期从240 nm到1500 nm。

  • 产品型号:
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2022-12-15
  • 访  问  量:236
详情介绍
品牌自营品牌

VIL1000激光干涉光刻机

VIL1000激光干涉光刻机

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1、 可实现同一晶圆上不同纳米结构的分区光刻;

2、 制作各种一维、二维纳米图案;

3、 最小线宽低于50nm

4、 与其他同类设备的功能对比图如下:



电子束直写

激光直写

紫外光刻机

激光干涉光刻机

设备示例




代表厂商

德国的RaithVistec, 日本的JEOLElionix

海德堡和Raith

Eulitha

InterLitho

代表性产品型号

Raith

EBPG Plus

海德堡

DWL 66+

Eulitha

PhableR 100

VIL1000


主要用途

高分辨率掩模版制造和纳米结构的制备

对分辨率要求不高的掩模版制造和纳米结构制备

分辨率适中的纳米结构制备

大面积、低成本、高通量制备高分辨率周期性纳米结构,用于微纳光学、生物芯片等新兴应用


刻写的最小物理线宽

<10nm

~300nm

60nm

40nm

价格和维护成本

较低

自动化程度

全自动

全自动

部分手动

全自动

设备效率

需要掩模

特征尺寸调制难度

难,样品需要重新刻写

难,样品需要重新刻写

难,需要重新刻写模板

容易,几分钟可实现








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