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产品简介
VIL1000激光干涉光刻机 VIL系列纳米图形系统（激光干涉光刻机）具有快速可重构光束传输、主动图形稳定和精确样品定位等强大功能。该系统可以通过使用标准2cm×2cm正方形或用户定义形状的图案场进行重复曝光，在8英寸大面积上产生各种纳米结构，例如1D光栅线和2D柱/孔图案，周期从240 nm到1500 nm。
| 品牌 | 其他品牌 |
|---|
VIL1000激光干涉光刻机
VIL1000激光干涉光刻机
1、 可实现同一晶圆上不同纳米结构的分区光刻；
2、 制作各种一维、二维纳米图案；
3、 最小线宽低于50nm；
4、 与其他同类设备的功能对比图如下：
电子束直写 | 激光直写 | 紫外光刻机 | 激光干涉光刻机 | |
设备示例 |  |
|  |  |
代表厂商 | 德国的Raith和Vistec, 日本的JEOL和Elionix | 海德堡和Raith | Eulitha | InterLitho |
代表性产品型号 | Raith EBPG Plus | 海德堡 DWL 66+ | Eulitha PhableR 100 | VIL1000 |
主要用途 | 高分辨率掩模版制造和纳米结构的制备 | 对分辨率要求不高的掩模版制造和纳米结构制备 | 分辨率适中的纳米结构制备 | 大面积、低成本、高通量制备高分辨率周期性纳米结构，用于微纳光学、生物芯片等新兴应用 |
刻写的最小物理线宽 | <10nm | ~300nm | 60nm | 40nm |
价格和维护成本 | 高 | 中 | 中 | 较低 |
自动化程度 | 全自动 | 全自动 | 部分手动 | 全自动 |
设备效率 | 低 | 低 | 高 | 高 |
需要掩模 | 否 | 否 | 是 | 否 |
特征尺寸调制难度 | 难，样品需要重新刻写 | 难，样品需要重新刻写 | 难，需要重新刻写模板 | 容易，几分钟可实现 |
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