全自动步进重复式激光干涉光刻机 VIL 1000纳米光刻系统具有全自动光路重构、动态锁相、高精度步进重复曝光等强大功 能。在放置旋涂好光刻胶的 晶圆后，无需任何手动设置或调整，我们的自动化系统可以在2 cm×2 cm的曝光区域内 （曝光区域还可定制其他尺寸及形状）实现纳米尺度的一维光栅或二维阵列的加工。所制 备纳米结构的周期涵盖240 nm到1500 nm的区间范围，

VIL1000激光干涉光刻机 VIL系列纳米图形系统（激光干涉光刻机）具有快速可重构光束传输、主动图形稳定和精确样品定位等强大功能。该系统可以通过使用标准2cm×2cm正方形或用户定义形状的图案场进行重复曝光，在8英寸大面积上产生各种纳米结构，例如1D光栅线和2D柱/孔图案，周期从240 nm到1500 nm。