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产品简介
原子层沉积系统镀膜机经济型科研沉积平台 稳定成膜、均匀可靠、面向材料研究便捷、稳定、再现性高
| 品牌 | 其他品牌 | 价格区间 | 面议 |
|---|---|---|---|
| 应用领域 | 电子/电池,航空航天,综合 |
原子层沉积系统镀膜机
设计理念
1. SE series可执行Thermal-ALD,PEALD,与ALA等*制程。
2. SE series具有高度的改造弹性,但其性能与稳定性并不因此而牺牲。
3. 原子层沉积系统设计具有便捷、稳定、再现性高的产品定位。
设计特点
1. 模块化前驱物导入系统易于维护、维修与扩充最多4组前驱物,并可使用 低蒸汽压前驱物;分流避免管路堵塞与粉尘问题
2. 低泄露率特殊设计,可摒除低剂量污染源影响制程结果
3. 满足现行多数材料制程需求: Oxide or nitride of Al,Si,Ti,Zr,Hf,etc..Metal(TBD) 4. 单系统宽54cm内,实验室友好尺寸
5. 特殊电浆源设计(Remote plasma)可提升GPC 6%(相较于ICP)
6. 特殊进气设计改善均匀性(U%<2%)针对死角残留问题进行特殊设计
原子层沉积系统镀膜机
