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桌面型多场辅助化学机械抛光设备

产品简介

桌面型多场辅助化学机械抛光设备,最大兼容4英寸样品,可定制特殊尺寸抛光头。3-8气路通道。使用专门结构“两点波珠定位"法兰设
计。定位准确,拆装方便。

保持环/样品独立气压控制,可实现多段施压。

产品型号:
更新时间:2026-04-30
厂商性质:代理商
访问量:12
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桌面型多场辅助化学机械抛光设备
桌面型多场辅助化学机械抛光设备,最大兼容4英寸样品,可定制特殊尺寸抛光头。3-8气路通道。使用专门结构“两点波珠定位"法兰设
计。定位准确,拆装方便。

样品加工尺寸:最大兼容4英寸,可定制特殊尺寸抛光头。
工艺装夹方式:手动操作。
抛光头下压力:最大350N(根据需求可开放更高压力)
抛光头转速:最高120RPM(根据需求可开放更高转速)

抛光盘转速:最高120RPM(根据需求可开放更高转速)
抛光盘直径:300mm。
抛光液:2路,流速最高200mL/min(根据需求可开放更高流量)
在线测量模块:电机扭矩、转速、气压等。
多场模块:可选配电化学模块、光催化模块

桌面型多场辅助化学机械抛光设备


 保持环/样品独立气压控制,可实现多段施压。
桌面型多场辅助化学机械抛光设备桌面型多场辅助化学机械抛光设备                                                                                                                  


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