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| 品牌 | 其他品牌 | 价格区间 | 面议 |
|---|---|---|---|
| 产地类别 | 进口 | 应用领域 | 化工,电子,电气,综合 |
电子束曝光系统ELS-F125具有以下优点：
l 超高书写精度
- 5 nm 线宽精度 @125 kV
- 1.7 nm 电子束直径&邻近效应小化 @125 kV
l 大通量、均匀性好
- 宽视野书写:500um视场下10 nm线宽
- 高束流下电子束直径依然很小，大通量而不影响分辨率，2 nm电子束直径@1 nA
l 界面用户友好
基于Windows系统的CAD和SEM界面:
-简单易用的图案设计功能
-易于控制的电子束条件
二、电子束曝光系统主要功能：
l 主要应用
纳米器件的微结构
集成光学器件，如光栅，光子晶体等
NEMS结构，复杂精细结构
光刻掩模板，压印模板
l 技术能力
三、应用：
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